在電鍍銀廠對于工作人員的要求是非常的高，不是每一個工人都可以成為一個合格的工作人員的，這些工作人員都是有一套熟練的技能的，可以在規定的時間里完成安排的任務。
對槽液中二價錫、總錫量、氟化物和定期分析，水鍍加工分別加、氯化亞錫和(pH值需降低時)或(pH值不需調整)。
使用赫爾槽kuaisu檢查槽液是否正常，試驗條件為250mL鍍液，電流2A，5min，68℃，正常槽液應給出均勻半光亮鍍層，如發暗或燒焦，表明氟化物或氯化亞錫濃度偏低。
PVD是英文PhysicalVaporDeition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分。另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會出現氣泡，水泡等不良狀況。噴上一層底漆以后，會形成一個光滑平整的表面，并且了塑料本身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的效果得以展現。
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